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详细介绍 DETAIL

一、主要用途：供制备薄膜无源微型元件。二、主要技术指标：1、蒸发室真空度：4×10-4Pa2、蒸发室恢复4×10-3Pa的时间：≤15min3、基片旋转架的转速：0～60n/min4、基片烘烤温度：

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