扩散炉 LPCVD-SIPOS · 青岛赛尔微电子有限公司

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扩散炉 LPCVD-SIPOS
作 — ITEM

扩散炉 LPCVD-SIPOS

¥ 2000000.00 / 套
品牌
赛尔微电子
库存
100
供应
青岛赛尔微电子有限公司
所在地
山东省 青岛市
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详细介绍 DETAIL

LPCVD技术指标1工作温度：300～900℃2适用硅片尺寸：4～6英寸3装片数量：正片100～150片/管4恒温区长度：1000mm5恒温区稳定性：≤±0.5℃6极限真空度：6mTorr7淀积膜均匀

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