扩散炉 LPCVD新设备-TEOS · 青岛赛尔微电子有限公司

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扩散炉 LPCVD新设备-TEOS
作 — ITEM

扩散炉 LPCVD新设备-TEOS

¥ 600000.00 / 套
品牌
赛尔微电子
库存
100
供应
青岛赛尔微电子有限公司
所在地
山东省 青岛市
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详细介绍 DETAIL

LPCVD是在低压加热条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。LPCVD广泛应用于半导体集成电路、电力电子、光电子及MEMS等行业中。LPCVD技术指标1工作温度：300～900℃2适

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